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應(yīng)用案例
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2023/10/17 14:36:30
產(chǎn)品應(yīng)用：適合半導(dǎo)體前端單晶硅制作過程中硅片及晶圓盒的存放,防止硅片的返顆粒，返霧現(xiàn)象； 由于普通的干燥存儲(chǔ)柜或者氮?dú)夤裨O(shè)計(jì)都為全封閉環(huán)境，且無自凈功能，故內(nèi)部容易積聚大量灰塵，而這些灰塵極可能粘附在存儲(chǔ)品上。潔凈柜則適合存放需要避免灰塵污染的物品.產(chǎn)品特性：★4英寸超高亮數(shù)碼管顯示，可視距離30米，可加裝氮?dú)夤?jié)約控制系統(tǒng)，可加裝報(bào)警系統(tǒng)?！餆o塵風(fēng)機(jī)——采用進(jìn)口無塵室專用FFU風(fēng)機(jī)，鍍鋁鋅板材質(zhì)，鋁合金葉輪，風(fēng)速0.3-0.45m/s，噪音=55dB。★雙面護(hù)網(wǎng)高效過濾器——過濾效率高99.99
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2023/10/20 9:49:26
規(guī)格參數(shù)型號CVTE-3工作方式立體環(huán)繞壁面加熱性能溫度控制范圍室溫+10℃～250℃真空度絕對真空0.1KPa～101.325KPa(標(biāo)準(zhǔn)大氣壓1atm)相對真空-101.225KPa～0KPa(標(biāo)準(zhǔn)大氣壓1atm)溫度控制精度±0.1℃溫度波動(dòng)度±0.5℃升溫速度室溫~200℃小于30分鐘規(guī)格內(nèi)尺寸（寬X高X深mm）W700*D700*H700mm外尺寸（寬X高X深mm）W900*D800*H1600mm容積343L層架承重30KG真空泵雙極旋片真空泵4L/S電源
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2023/10/20 9:44:40
產(chǎn)品應(yīng)用：適用于橡膠類產(chǎn)品的脫硫、硫化、二次硫化產(chǎn)品特性：外觀結(jié)構(gòu)：★外殼采用A3冷軋鋼板裁剪、打磨、酸洗、磷化等表面防銹處理后烤漆，工作室采用SUS304#潔凈不銹鋼板滿焊、耐高溫密封處理★隔熱層采用100mm厚100K高密度硅酸鋁纖維保溫材料，保溫效果佳★門框密封采用無氟硅橡膠密封條，耐高溫，抗老化★可定制物料臺車或者依據(jù)客戶已有物料車定制烘箱尺寸風(fēng)路系統(tǒng)：★獨(dú)立可控排風(fēng)換氣系統(tǒng)，可以及時(shí)排出箱體內(nèi)廢氣，防爆，防污染★采用倒U型風(fēng)道結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，箱內(nèi)兩側(cè)單向水平送風(fēng)，風(fēng)道倉內(nèi)強(qiáng)壓送風(fēng)★特殊可調(diào)導(dǎo)
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2023/10/20 9:48:22
規(guī)格參數(shù)型號CVTP-1工作方式立體環(huán)繞壁面加熱性能溫度控制范圍室溫+10℃～250℃真空度絕對真空0.1KPa～101.325KPa(標(biāo)準(zhǔn)大氣壓1atm)相對真空-101.225KPa～0KPa(標(biāo)準(zhǔn)大氣壓1atm)溫度控制精度±0.1℃溫度波動(dòng)度±0.5℃升溫速度室溫~200℃小于30分鐘規(guī)格內(nèi)尺寸（寬X高X深mm）W500*D700*H500mm外尺寸（寬X高X深mm）W1100*D900*H1600mm容積175L層架承重30KG真空泵干式真空泵4L/S電源3
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2023/10/20 9:50:50
規(guī)格參數(shù)型號CTNH-70工作方式離心風(fēng)機(jī)強(qiáng)制對流循環(huán)送風(fēng)性能溫度控制范圍室溫+10℃～120℃溫度控制精度±0.1℃溫度波動(dòng)度±0.5℃溫度均勻度≤±1.5℃（100℃空載）濕度控制范圍1%RH～環(huán)境濕度濕度控制精度±3%RH規(guī)格內(nèi)尺寸（寬X高X深mm）W400*D350*H500mm外尺寸（寬X高X深mm）W600*D650*H1000mm容積70L層架承重30KG電源220V 50HZ功率2.5KW重量約100KG結(jié)構(gòu)工作室304不銹
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2023/10/20 9:46:59
對于大部分光刻膠與Si襯底而言，其粘附性一般都是不錯(cuò)的，但是在光刻中，通常會(huì)用到一些例如藍(lán)寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底，這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想，這會(huì)導(dǎo)致后續(xù)的光刻顯影環(huán)節(jié)出現(xiàn)“裂紋”甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善，這個(gè)步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。以石英、玻璃或硅表面的氧化物（自然氧化）的形式存在的二氧化硅以及大多數(shù)金屬在暴露于大氣中在一定的下濕度足夠長時(shí)間后在其表面形成極性O(shè)H鍵。這種襯底是親水性的，因此對光刻膠的非極性或低極性樹脂分子具有較差的親
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